薄膜形成-エッチング-ガス-設備

• 成膜均一性(process uniformity)：ウェーハ上に均一に薄膜が形成されたかを知る為の判定方法。ウェーハ面内、ウェーハ間(バッチ処理装置)、バッチ間などがある。
• ホットウォール(hot wall)：CVD装置において、反応室の外側からヒータ加熱等を用いて反応室内のウェーハの加熱を行う方法。反応室の壁温度も高温となることから、ホットウォールと呼ばれる。
• プリクリーニングチャンバ(pre-cleaning chamber)：デポジション前にウェーハ表面をクリーニングする専用チャンバ。マルチチャンバ型の装置に多く用いられる。
• 裏面デポ抑制(exclusing backside deposition)：ウェーハ裏面への成膜を防止する構造及びその方法。メタルCVD等で反応ガスがウェーハ裏面に廻りこんで不完全な成膜が行われ、剥離によりパーティクルを発生させることがあるために用いられている。
• アノード(anode)：電子銃の構成要素の１つで、カソードから放射された電子を加速するための電極。通常、アノードは電子銃容器と共に接地されており、カソードには数十KVの負の加速電圧が印加される。
• カソード(cathode)：電子銃の構成要素の1つで、カソードから放射する電極。熱電子放射用のタングステンヘアピン型カソード、LAB6カソード、及び電解又は熱電界放射用カソードなどがある。
• ドライエッチング装置(dry etching system)：気相中でウェーハなどをエッチングする装置の総称。減圧下の活性ガスプラズマを利用してエッチングする場合が多い。ウェットエッチング装置を用いる場合に比べより微細なエッチングに対応できる。
• ECRエッチング装置(electron cyclotron resonance etching system)：ECR(電子サイクロトロン共鳴)を利用してウェーハをエッチングする有磁場マイクロ波は、オートチューナで整合され、導波管を通り空洞共振部で伝播モードが選択励起されて、エッチング室へと導入される。マイクロ波によるエネルギーとソレノイドコイルにより発生した磁場との相乗効果で電子サイクロトロン共鳴(ECR)を生じ、プロセスガスをプラズマ化し高密度プラズマを生成する。ウェーハは電極上に設置され、ウェーハ裏面には、熱伝達効率を高めるためにHeガスが充填される。電極には高周波バイアス電源により、高周波を印加しており、プラズマ中のイオンをウェーハに対し、垂直に引き込み、且つ入射エネルギーを制御し、加工精度の良い異方性エッチングが可能となる。
• バルクガス(bulk gas)：半導体製造のパージガス、キャリアガス、酸化ガスとして使用されるガス。N2、O2、H2、Arを指し、特殊材料ガスに比較して大量に消費される。
• キャリアガス(carrier gas)：半導体製造に使用される特殊材料ガスの濃度調整に用いられるガス。特殊材料ガスがきたいの場合は希釈用として、液体もしくは固体の場合には気化および混合用として使用される。H2,N2,Ar,Heなどがある。
• 特殊材料ガス･半導体製造用材料ガス(specific material ags/material gas for semiconductor fabrication)：半導体デバイスの各製造工程でしようされるガス。成膜においては膜の材料となるもの、加工およびクリーニングにおいては構成材料の除去に使用されるものをいう。
• 特殊高圧ガス(specified highpressure gas)：特殊材料ガスのうち、自然発火性、分解爆発性のあるいは高毒性といった特に危険な特性を有するアルシン、ジシラン、ジボラン、セレン化水素、ホスフィン、モノゲルマン、モノシランの7種のガス。高圧ガス保安法施行令で指定されており、消費に際して災害防止のために都道府県への届けなどの義務が課せられている。
• 毒性ガス(toxic gas)：高圧ガス保安法で、じょ限量が200ppm以下の毒性を有するガス。アルシン、塩素、三フッ化ホウ素、ジボラン、モノシラン、フッ素など33種類以上のガスが指定されている。
• マスフローメータ(mass flow meter)：ガスの流量を電気的に計測する装置。金属性毛細管の外側に巻かれた2個の自己発熱抵抗体間に、流体ガスの質量流量に応じて生じる温度差を、電流値として検出する。圧力損失が少なく、精度も高い。コントロールバルブおよび電気回路と組み合わせると半導体製造用ガスの供給を自動に行う流量制御装置(マスフローコントローラー、mass flow controllre)を構成することができる。
• 逆止弁(check valve)：ガス配管系に設置して、背圧によって弁体が流体ガスの逆流を防止するように作動するバルブ。2種類以上の半導体製造用ガスを混合して用いる場合、混合爆発や毒ガス、あるいは腐食性ガスなどの逆流による事故を未然に防止する目的で用いる。
• 天井軌道走行型搬送車･OHS･OHT(ceiling-track guided vehicle/overhead track guided vehicle/overhead shuttle/overhead hoist transport)：軌道レールを必要とし、天井レベルの空間を走行する無人搬送車。その軌道レールは、天井から吊り下げられることが多い。搬送能力を高める為に、分岐・合流走行のできるものもある。主に、工程間搬送に使用するものをOHS、工程内搬送に使用し、移載装置がホイスト形式のものをOHTと呼ぶ。