CVD装置

• CVD装置(chemical vapor deposition system)：薄膜材料を構成する元素からなる１種又は数種の化合物ガス、単体ガスをウェーハ上に供給し、気相又はウェーハ表面での化学反応により所望の薄幕を形成させる装置。ガス分子を励起させるには一般的には、熱エネルギーやプラズマ放電を用いる。最近では光(レーザ、紫外線など)励起や触媒を使用したCVD装置も実用化されつつある。